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J-GLOBAL ID：200903052026343254

含フッ素ビニルエーテルおよびそれを使用した含フッ素重合体、ならびに含フッ素重合体を使用したレジスト材料

Inventor：
小林 悟

About 小林 悟

, 
前田 一彦

About 前田 一彦


Applicant, Patent owner：
セントラル硝子株式会社

About セントラル硝子株式会社


Agent (1)： 西 義之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002320871
Publication number (International publication number)：2004155680
Application date： Nov. 05, 2002
Publication date： Jun. 03, 2004
Summary：
【課題】光の散乱や吸収が少なく、高透明性が要求されるレジスト材料のベースとなり得るポリマーおよびそのポリマーの原料となり得るモノマーを提供することにある。【解決手段】下記一般式(1)で表される含フッ素ビニルエーテル化合物。【化1】(式中、Rはフッ素原子を少なくとも1個含有し、環状構造を有する有機基を表す。)本発明の含フッ素ビニルエーテルは、各種のモノマーとの共重合が可能であり、得られた含フッ素重合体は溶剤への溶解性、透明性に優れる。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
下記一般式(1)で表される含フッ素ビニルエーテル。
IPC (7)：
C07C43/192 ,  C07C43/196 ,  C07C43/225 ,  C07C43/23 ,  C08F16/14 ,  G03F7/027 ,  G03F7/039
FI (7)：
C07C43/192 ,  C07C43/196 ,  C07C43/225 C ,  C07C43/23 C ,  C08F16/14 ,  G03F7/027 ,  G03F7/039 601
F-Term (32)：
2H025AA07 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BC23 ,  2H025BC83 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4J100AE09P ,  4J100BA03P ,  4J100BA05P ,  4J100BA06P ,  4J100BA16P ,  4J100BA20P ,  4J100BB07P ,  4J100BB10P ,  4J100BB12P ,  4J100BB13P ,  4J100BB17P ,  4J100BB18P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC12P ,  4J100BC43P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA37
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (12)
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