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J-GLOBAL ID：200903052034936515

X線露光方法及びその装置

Inventor： 田中 稔彦 ,  岡田 浩一
Applicant, Patent owner： 株式会社ソルテツク
Agent (1)： 吉原 省三 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991260448
Publication number (International publication number)：1993074688
Application date： Sep. 12, 1991
Publication date： Mar. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】 X線マスクにおける熱歪によるパターン位置ずれを防止して、高い位置精度でのX線露光を可能にする。【構成】 X線光源3とX線マスク2の間にバンドカットフィルタ1を置いてX線露光を行なう。このバンドカットフィルタ1としては、その主成分がマスクメンブレンに使われている主構成元素で且つ質量の大きな元素であることが望ましい。

Claim (excerpt)：

X線マスクを介してウェハに被着したレジストをX線光源から発せられるX線により露光し、所望のパターンを焼き付けるX線露光方法において、上記X線光源とX線マスクの間で、該X線マスクのメンブレンに強く吸収される帯域のX線を選択的にカットすることを特徴とするX線露光方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 331 A ,  H01L 21/30 331 E