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J-GLOBAL ID：200903052039342044

イオン注入装置

Inventor：
熊崎 裕教

About 熊崎 裕教


Applicant, Patent owner：
日新電機株式会社

About 日新電機株式会社


Agent (1)： 原 謙三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993315294
Publication number (International publication number)：1995169432
Application date： Dec. 15, 1993
Publication date： Jul. 04, 1995
Summary：
【要約】【構成】 走査電圧波形データに基づいてイオンビーム50を略一定の走査幅で走査させながら、ウェハ10にビームを照射してイオン注入処理を行うものであって、ビーム走査領域内に設置されたドーズファラデ11と、ドーズファラデ11に流入するビーム電流を計測するビーム電流計測回路13と、ビーム電流計測回路13の計測値をモニタしながら、ビーム電流信号が発生するときの走査電圧波形データ(そのアドレス)を確認し、ビームドリフト発生の有無を検出する波形コントローラ5とを備えている。【効果】 注入処理中、ドーズファラデ11に流入するイオンビーム50のビーム走査領域内の位置の変化を確認することができるので、従来検出不可能であったビームドリフトが検出可能となり、ビームドリフトに起因する注入再現性の悪化を未然に防止できる。
Claim (excerpt)：
所定の走査波形データに基づいてイオンビームを略一定の走査幅で走査させるビーム走査手段を備え、イオンビームを走査させながらビーム照射対象物にビームを照射してイオン注入処理を行うイオン注入装置において、ビーム走査領域内に設置されたビーム計測部と、上記ビーム計測部に流入するビーム電流を計測するビーム電流計測手段と、上記ビーム電流計測手段の計測値と上記走査波形データとに基づいて、ビームドリフト発生の有無を検出するビームドリフト検出手段とを備えていることを特徴とするイオン注入装置。
IPC (4)：
H01J 37/317 ,  C23C 14/48 ,  H01J 37/04 ,  H01L 21/265
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)

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