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J-GLOBAL ID:200903052039977589
高濃度の四面体配位炭素を含む炭素被覆遮断フィルム
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
湯浅 恭三 (外6名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1996501227
Publication number (International publication number):1998501302
Application date: Jun. 02, 1995
Publication date: Feb. 03, 1998
Summary:
【要約】炭素は、種物質添加物を含有する分解性先駆体のプラズマ強化化学蒸着によって基体に付着させる。種物質は高濃度のsp3四面体配位炭素を有する炭化水素である。種物質は、付着非晶質炭素被覆中のsp3四面体配位炭素原子の複製のための鋳型となる。
Claim (excerpt):
プラズマの存在下での分解性先駆体の蒸着により炭素被覆を基体上に付着させることを含んでなる、高められた遮断特性を有するフィルムの製造方法であって、 該分解性先駆体が、付着炭素被覆中の四面体配位炭素の形成を容易にするかまたは該炭素濃度を高める種物質を含む、上記の方法。
IPC (3):
C23C 16/30
, C01B 31/06
, C30B 29/04
FI (3):
C23C 16/30
, C01B 31/06 A
, C30B 29/04 A
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