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J-GLOBAL ID：200903052069074567

撮像装置

Inventor： 吉田 英明
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001075904
Publication number (International publication number)：2002281391
Application date： Mar. 16, 2001
Publication date： Sep. 27, 2002
Summary：

【要約】【課題】遮光手段や白色光付与手段といった特段の装置を構成に加えることなく、経時的画素欠陥増加による画質劣化を事実上生じない高性能な撮像装置を実現する。【解決手段】システムコントローラ112には、毎回の本撮像時における検出結果に基づいて画素欠陥データの検出を行うための欠陥データ検出部112aと、本撮像時にCCD105から得られる信号に対して画素欠陥補償処理を施すための欠陥補正制御部112bとが設けられている。欠陥データ検出部112aによる欠陥検出では、例えば毎回の本撮像の際に画像を解析して欠陥の候補が検出され、さらに複数回の検出において所定の条件を満たした欠陥候補のみが欠陥画素データとして決定される。そして、その欠陥画素データがEEPROM118に追加登録される。

Claim (excerpt)：

撮像素子と、前記撮像素子に被写体像を入力する撮像光学系と、前記撮像素子の欠陥画素アドレスを欠陥データとして登録する記憶手段と、前記撮像素子の出力に対して前記記憶手段に登録された欠陥データに基づいて近隣画素データによる補償処理を行なう欠陥補償手段と、遮光状態または均一の光入力状態のいずれとも異なる通常露光状態における前記撮像素子の出力を解析することにより前記欠陥画素アドレスの検出を実行する欠陥データ検出手段と、前記欠陥データ検出手段により新たに検出された欠陥データに基づいて前記記憶手段に登録された欠陥データを更新する欠陥データ管理手段とを具備することを特徴とする撮像装置。

IPC (2)：

H04N 5/335 ,  H04N 5/21

FI (2)：

H04N 5/335 P ,  H04N 5/21 B

F-Term (6)：

5C021PA78 ,  5C021PA92 ,  5C021YA06 ,  5C024CX22 ,  5C024CX23 ,  5C024GY01