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J-GLOBAL ID：200903052078471005
マスク保護装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
市村 健夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991180461
Publication number (International publication number)：1993002263
Application date： Jun. 26, 1991
Publication date： Jan. 08, 1993
Summary：
【要約】【目的】 マスクのパターンの周縁部分においてもペリクル枠による光の遮蔽がないマスク保護装置を提供することである。【構成】 ペリクル枠の内壁の傾斜が外側に開いた傾斜を有し、その傾斜角が、使用する対物レンズの入射角より大きいように構成した。【効果】 マスクのパターンの周縁部分においても正常な検査が可能となる。
Claim (excerpt)：
マスク基板に形成された原画パターンを含むパターン領域を塵埃等から保護するために、前記マスク基板上の前記パターン領域の周囲に設けた枠部材の上端に膜部材を張設したマスク保護装置において、前記枠部材の内壁は、対向面の間隔が、前記上端に向かって広がるように傾斜していることを特徴とするマスク保護装置。
Patent cited by the Patent：
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