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J-GLOBAL ID：200903052106536690
パルス電子ビーム照射装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山本 惠二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993062829
Publication number (International publication number)：1994248326
Application date： Feb. 26, 1993
Publication date： Sep. 06, 1994
Summary：
【要約】【目的】 被照射物に照射するパルス電子ビーム中の低エネルギー成分をカットすることによって、表面の荒れを伴うことなく被照射物の表面熱処理を行うことができるようにしたパルス電子ビーム照射装置を提供する。【構成】 パルス電子ビーム14を発生させる電子ビーム発生部6のカソード10にその周辺部において対向するように、複数本の棒電極38をアノード8から突設し、この各棒電極38とカソード10自身とによって、自爆型の放電ギャップ36を構成している。この各放電ギャップ36は、電子ビーム発生部6のアノード8とカソード10間の電圧が0に低下しきる前に放電するように構成されている。この放電ギャップ36の放電によって、アノード8とカソード10間の電圧VE が裁断され、パルス電子ビーム14の発生が停止する。これにより、パルス電子ビーム14中の低エネルギー成分をカットすることができる。
Claim (excerpt)：
真空容器と、この真空容器内に収納されていて、カソードおよびそれに対向していて1以上の電子通過孔を有するアノードから成る電子ビーム発生部と、この電子ビーム発生部のアノードとカソードとの間に高電圧パルスを印加する高電圧パルス電源とを備え、前記電子ビーム発生部でパルス電子ビームを発生させてそれを前記真空容器またはそれに連通する真空容器内に収納された被照射物に照射して、この被照射物に表面熱処理を施すようにしたパルス電子ビーム照射装置において、前記電子ビーム発生部のアノードとカソードとの間を、両者間の電圧が低下する途中で電気的に短絡して、アノードとカソード間に印加される電圧を裁断する短絡手段を設けたことを特徴とするパルス電子ビーム照射装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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