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J-GLOBAL ID：200903052114397283

ガラス基板の前処理方法

Inventor： 近藤 慶和 ,  守屋 友伸 ,  福田 和浩 ,  西脇 彰
Applicant, Patent owner： コニカ株式会社
Agent (1)： 坂口 信昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999053544
Publication number (International publication number)：2000250017
Application date： Mar. 02, 1999
Publication date： Sep. 14, 2000
Summary：

【要約】【課題】新規なガラス基板の前処理方法を提供するものであり処理時間を大幅に短縮することができ、メンテナンス性や安全性の面で有利であり、収率を向上させることができ、生産性のよいガラス基板の前処理方法を明らかにする。【解決手段】ガラス基板に塗布液を塗布する前の処理として、ガラス基板の表面を大気圧下で放電処理を行なうことを特徴とするガラス基板の前処理方法である。

Claim (excerpt)：

ガラス基板に塗布液を塗布する前の処理として、ガラス基板の表面を大気圧下で放電処理を行なうことを特徴とするガラス基板の前処理方法。

IPC (4)：

G02F 1/1333 500 ,  B08B 6/00 ,  C03C 23/00 ,  G02F 1/13 101

FI (4)：

G02F 1/1333 500 ,  B08B 6/00 ,  C03C 23/00 A ,  G02F 1/13 101

F-Term (17)：

2H088EA02 ,  2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090HC18 ,  2H090JB02 ,  2H090JC09 ,  2H090JC19 ,  3B116AA02 ,  3B116AB14 ,  3B116AB42 ,  3B116BC01 ,  3B116CD11 ,  4G059AA08 ,  4G059AB01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 表面処理方法及びその装置、半導体装置の製造方法及びその装置、並びに液晶ディスプレイの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-124250   Applicant：セイコーエプソン株式会社
• ウエハ及び基板の処理装置及び処理方法、ウエハ及び基板の移載装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-164526   Applicant：セイコーエプソン株式会社