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J-GLOBAL ID：200903052131306143
基板乾燥方法および基板乾燥装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
下出 隆史 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993120939
Publication number (International publication number)：1994310486
Application date： Apr. 23, 1993
Publication date： Nov. 04, 1994
Summary：
【要約】【目的】 基板の乾燥を効率よく、しかも確実に行なう。【構成】 駆動モータ23により水平回転するスピンチャック11上に基板Wを保持する。この基板Wの表面に向かって、ガス供給部30から送られるIPAベーパーを含む窒素ガスをガス吹付ノズル13から吹き付ける。基板Wの回転による遠心力に加えて、基板Wの表面へのIPAベーパーを含む窒素ガスの吹き付けにより、基板Wの表面上の水滴が吹き飛ばされる。さらに、基板W表面に吹き付けられたIPAのベーパーは、その一部が基板W表面上の水滴に溶解することから、水滴部分の蒸気圧を降下させて、アルコール分とともにその水滴を蒸発させる。
Claim (excerpt)：
基板を回転させて基板の表面に付着した水滴を水切り乾燥する基板乾燥方法において、前記回転中の基板の表面に水溶性アルコールのベーパーを吹き付けることを特徴とする基板乾燥方法。
IPC (5)：
H01L 21/304 361
, H01L 21/304
, B08B 5/02
, F26B 11/08
, G03F 1/08
