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J-GLOBAL ID:200903052163397140

自己整合InP系HBT

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 上代 哲司 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992044540
Publication number (International publication number):1993243258
Application date: Mar. 02, 1992
Publication date: Sep. 21, 1993
Summary:
【要約】【目的】 InP系ヘテロバイポーラトランジスタの性能を向上させる。【構成】 InP基板上に第一導電型のInPサブコレクタ層、任意の導電型を有するInPコレクタ層、第二導電型のGaInAsベース層、ならびに第一導電型のInPエミツタ層、第一導電型を有するGaInAsエミツタキャツプ層を順次積層して作成されたInP系ヘテロ接合バイポーラトランジスタにおいて、矩形状のエミツタの-辺の方向が<001>方向、またはそれに垂直な方向を有し、かつエミツタキヤツプ上およびベース上のオーミツク電極を同一時に形成することを特徴とした自己整合InP系ヘテロ接合バイポーラトランジスタ。
Claim (excerpt):
InP基板上に第1の導電型のサブコレクタ層、任意の導電型を有するコレクタ層、第2導電型のべース層、ならびに第1導電型のInPエミッタ層、第1の導電型を有するGaInAsエミッタキャップ層を順次積層して作成されたInP系ヘテロ接合バイポーラトランジスタにおいて、矩形状のエミッタの一辺の方向が<001>方向、またはそれに垂直な方向を有し、かつエミッタキャプ上およびべース上のオーミック電極を同一時に形成することを特徴とした自己整合InP系ヘテロ接合バイポーラトランジスタ。
IPC (3):
H01L 21/331 ,  H01L 29/73 ,  H01L 29/205
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
  • 特開昭61-014756
  • 特開平3-106026
  • 特開平3-053563
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