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J-GLOBAL ID：200903052210771242

磁気記録媒体およびその製造方法

Inventor： 安宅 豊路 ,  増田 克也 ,  白井 信二 ,  山岸 稔 ,  滝澤 直樹
Applicant, Patent owner： 富士電機デバイステクノロジー株式会社
Agent (2)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003081333
Publication number (International publication number)：2004288327
Application date： Mar. 24, 2003
Publication date： Oct. 14, 2004
Summary：

【課題】スペーシングロスを大きくすることなく、磁気記録媒体表面の腐食性ガス等の耐食性を向上させる磁気記録媒体の製造方法およびその製造方法により製造された磁気記録媒体。【解決手段】非磁性基体上に少なくとも磁性層、カーボン保護層、潤滑層を有する磁気記録媒体の製造方法であって、前記カーボン保護層成膜後に、酸素を15体積%から30体積%含む希ガスと酸素の混合ガス雰囲気下でプラズマ処理することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法、およびその製造方法により製造される、カーボン保護層の表面の酸素濃度が11原子%以上、14原子%以下であり、前記カーボン保護層の水との接触角が4度以下である磁気記録媒体。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

非磁性基体上に少なくとも磁性層、カーボン保護層、潤滑層を有する磁気記録媒体の製造方法であって、前記カーボン保護層の成膜後に、酸素を15体積%から30体積%含む希ガスと酸素の混合ガス雰囲気下で、カーボン保護層をプラズマ処理することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

IPC (4)：

G11B5/84 ,  G11B5/64 ,  G11B5/72 ,  G11B5/725

FI (5)：

G11B5/84 B ,  G11B5/84 Z ,  G11B5/64 ,  G11B5/72 ,  G11B5/725

F-Term (7)：

5D006AA02 ,  5D006AA04 ,  5D006AA05 ,  5D112AA07 ,  5D112BC05 ,  5D112GA17 ,  5D112GA22