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J-GLOBAL ID：200903052214173552

リソグラフイ-用ペリクル

Inventor： 久保田 芳宏 ,  樫田 周 ,  永田 愛彦 ,  野口 仁 ,  浜田 裕一 ,  熊谷 公孝
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 山本 亮一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991274564
Publication number (International publication number)：1993088359
Application date： Sep. 26, 1991
Publication date： Apr. 09, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 本発明はLSI、超LSIなどの半導体装置あるいは液晶表示板を製造する際のゴミよけ用として使用される、実質的に500nm以下の光を用いる露光方式におけるリソグラフィー用ペリクルの提供を目的とするものである。【構成】 本発明のリソグラフィー用ペリクルは、ペリクル内面に式(CH3)3SiO1/2とSiO2の単位モル比が1:0.4 〜1:1.5 であるシリコーンレジンと、式【化7】(R1 は水酸基、メチル基またはビニル基、R2 はメチル基またはビニル基、xは正数、yは0または正数でx+y=100〜10,000)で示されるシリコーンオイルまたはシリコーンゴムとの混合物、またはこれらが少なくとも部分的に縮合したシリコーン粘着剤を塗布してなることを特徴とするものである。

Claim (excerpt)：

ペリクル内面に式(CH3)3SiO1/2と式SiO2の単位モル比が1:0.4 〜1:1.5 であるシリコーンレジンと、式【化1】(R1 は水酸基、メチル基またはビニル基、R2 はメチル基またはビニル基、xは正数、yは0または正数でx+y=100〜10,000)で示されるシリコーンオイルまたはシリコーンゴムとの混合物、またはこれらが少なくとも部分的に縮合したシリコーン粘着剤を塗布してなることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。

IPC (5)：

G03F 1/14 ,  C08J 7/04 ,  C08L 83/04 LRZ ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027