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J-GLOBAL ID：200903052216862517

プラズマエンハンスド真空殺菌法、プラズマエンハンスド真空排気法、及びプラズマエンハンスド真空乾燥法

Inventor：
ロバート・エム・スペンサー

About ロバート・エム・スペンサー

, 
トラランス・オー・アディ

About トラランス・オー・アディ


Applicant, Patent owner：
ジョンソン・アンド・ジョンソン・メディカル・インコーポレイテッド

About ジョンソン・アンド・ジョンソン・メディカル・インコーポレイテッド


Agent (1)： 田澤 博昭 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995288109
Publication number (International publication number)：1996206181
Application date： Oct. 11, 1995
Publication date： Aug. 13, 1996
Summary：
【要約】【課題】 殺菌処理の初期段階において殺菌装置内で必要な真空を得るのに必要な時間を短くする。【解決手段】 殺菌すべき物品は密閉された真空チェンバ11内に載置され、真空チェンバ11は排気される。RF発生器14によって残留ガスのプラズマが初期の排気ステップにおいて生成される。これによって、物品の乾燥を促進し、プラズマを使用しない場合より早く真空チェンバ11を所望の圧力にすることができる。殺菌ガス(反応剤13)が真空チェンバ11内へ注入され、RF発生器14によって第2のプラズマが殺菌ガスプラズマを誘起するために生成される。これにより、真空チェンバ11内の物品が殺菌される。
Claim (excerpt)：
殺菌すべき物品をチェンバ内に載置し、前記チェンバを第1の圧力に到達するまで排気し、前記第1の圧力下の前記チェンバ内でガスプラズマを発生し、第2の圧力に到達するまで前記チェンバの排気を継続して行い、前記第2の圧力下の前記チェンバ内へ殺菌ガスを導入するプラズマエンハンスド真空殺菌法。
IPC (2)：
A61L 2/14 ,  A61L 2/02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
  • 特開昭51-067568
  • 特開平1-293871
  • 特開平4-231053
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