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J-GLOBAL ID：200903052221895288

3-5族化合物半導体用電極材料とその電極

Inventor： 家近 泰 ,  福原 昇 ,  高田 朋幸 ,  小野 善伸
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995030900
Publication number (International publication number)：1995288321
Application date： Feb. 20, 1995
Publication date： Oct. 31, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】p型不純物をドープしたInxGayAlzNで表される3-5族化合物半導体と低接触抵抗を示す電極材料と電極を提供し、低電圧駆動できる発光装置を実現する。【構成】NH3とトリメチルGaとH2及びMgを含む有機ガスを用い、MOVPE法によりGaN系半導体を作製した。サファイアC面を研磨洗浄した基板4をH2中1100°Cに加熱しながらHClガスを流し、炉とサセプタや基板をエッチングした後、さらにH2で洗浄した。次に600°CでGaNバッファ層5を成膜後、1100°CでMgドープしたGaN6を3μm厚さに成膜した。基板を炉より取出しN2中800°C20分アニールしたGaN膜はp型を示し、その膜上にMgとAuを順次電極パターンに真空蒸着した。Au電極の場合アニールの有無によらず内側の円形電極が+になる順方向に4V加えた時電流は約1.4mAであるが、Mgが0.3W%で900°Cアニールの場合3mA、Mg/W%で800°C以上の場合4mAで良い低抵抗電極が得られた。

Claim (excerpt)：

p型不純物をドープした一般式Inx Gay Alz N(ただし、x+y+z=1、0≦x≦1、0≦y≦1、0≦z≦1)で表される3-5族化合物半導体用電極材料であって、Auと、Mg及び/又はZnとを含む合金であることを特徴とする3-5族化合物半導体用電極材料。

IPC (4)：

H01L 29/43 ,  H01L 21/3205 ,  H01L 33/00 ,  H01S 3/18

FI (2)：

H01L 29/46 G ,  H01L 21/88 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭49-029770
  
• 半導体発光素子及びその作製方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-211501   Applicant：日本電信電話株式会社
• 特開昭62-155562
  
• 特開昭56-050588