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J-GLOBAL ID：200903052241285702

治療装置

Inventor： 八田 信二 ,  長瀬 徹 ,  浪岡 保宏 ,  古川 喜之
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994326078
Publication number (International publication number)：1996173553
Application date： Dec. 27, 1994
Publication date： Jul. 09, 1996
Summary：

【要約】【目的】本発明は体腔内の温熱治療と放射線治療とを同時に行い、患部の治療効果を高めるとともに、体腔内の周方向の全面に形成された全周的な患部に対して均一に放射線を照射させることを最も主要な特徴とする。【構成】バルーン26内に加温治療用高周波電極25を備えた腔内アプリケータ2におけるシャフト部15の軸心部に小線源挿入孔16を配置し、小線源挿入孔16内の小線源28からアプリケータ本体14の軸心方向と直交する平面上で円周方向全体に亙り略均一に放射線を照射させるようにした。

Claim (excerpt)：

先端部に加温治療用高周波電極とそれを囲むようにバルーンが設けられている温熱治療用アプリケータの本体に、放射線治療用の放射線放射源を前記アプリケータ本体の軸心方向と直交する平面上で円周方向全体に亙り略均一に放射線を照射させる状態に配設したことを特徴とする治療装置。

IPC (3)：

A61N 1/06 ,  A61F 7/12 ,  A61N 5/10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭57-119763
  
• 特開昭57-119763
  
• 特開昭57-119763