Pat
J-GLOBAL ID:200903052242155187

耐臭性被膜形成用組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大井 正彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991198321
Publication number (International publication number):1993017687
Application date: Jul. 15, 1991
Publication date: Jan. 26, 1993
Summary:
【要約】【目的】 基材に適用されて好適な被膜を形成し、これにより基材に対して臭気の転移または付着を防止することができ、しかも当該被膜は、それ自体に転移した臭気を水洗洗浄によって容易に除去することができるものである耐臭性被膜形成用組成物を提供することを目的とする。【構成】 (1)アミン含有ケイ素化合物27〜78重量%と、(2)分子末端に水酸基を有し、重合度が3〜50であるポリジオルガノシロキサン2〜33重量%と、(3)反応性シリコーンレジン17〜43重量%とを含有してなり、前記反応性シリコーンレジンは、下記化1で示される1価の単位成分と4価の単位成分とをそれらのモル比が0.4:1〜1.8:1の範囲で含有すると共に2.0〜4.0重量%の水酸基を含有することを特徴とする。【化1】
Claim (excerpt):
(1)アミン含有ケイ素化合物27〜78重量%と、(2)分子末端に水酸基を有し、重合度が3〜50であるポリジオルガノシロキサン2〜33重量%と、(3)反応性シリコーンレジン17〜43重量%とを含有してなり、前記反応性シリコーンレジンは、下記化1で示される1価の単位成分と4価の単位成分とをそれらのモル比が0.4:1〜1.8:1の範囲で含有すると共に2.0〜4.0重量%の水酸基を含有することを特徴とする耐臭性被膜形成用組成物。【化1】
IPC (4):
C08L 83/04 LRZ ,  A61L 9/01 ,  C08L 83/06 ,  C08L 83/08

Return to Previous Page