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J-GLOBAL ID：200903052245628183
位置合わせ方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992199725
Publication number (International publication number)：1994045225
Application date： Jul. 27, 1992
Publication date： Feb. 18, 1994
Summary：
【要約】【目的】 ウエハ上に形成された複数のショット領域の各々とレチクルとの重ね合わせ(アライメント)精度を向上させる。【構成】 7個のサンプルショットの座標位置を用いて統計演算を行い、変換行列Ag、Og及びウエハW上の8個の仮想ショットの配列座標値を算出する。ここで算出した配列座標値に従ってウエハステージWSをステッピングさせ、仮想ショット毎にレチクルマークRMx1、RMy1を潜像として形成した後、仮想ショット毎の潜像マークの座標位置を統計演算することにより変換行列At、Otを算出する。そして、変換行列Ag、Og、及びOtを用いてウエハW上の全てのショット領域の配列座標値(Fx、Fy)を決定し、この決定された配列座標値に従ってウエハステージWSをステッピングさせることで、ウエハW上の複数のショット領域の各々をレチクルパターンに対して正確に位置合わせする。
Claim (excerpt)：
マスクに形成されたパターンを露光すべき感光基板に所定の配列座標に従って2次元的に形成された複数の露光領域の各々を、前記基板の移動位置を規定する静止座標系内の所定の露光位置に対して位置合わせする方法において、前記複数の露光領域のうち、予め選択された少なくとも3つの露光領域の前記静止座標系上における座標位置を計測し、該計測された複数の座標位置を統計演算することにより算出される複数の第1パラメータを用いて、前記静止座標系上での前記複数の露光領域の計算上の配列座標を算出する第1工程と;該算出された計算上の配列座標に従って前記感光基板を移動して前記露光位置に位置決めしながら、前記感光基板上の予め定められた複数の位置の各々に、前記マスクに形成された特定マークを露光する第2工程と;該露光された複数の特定マークの像のうち、少なくとも3つの特定マークの像の前記静止座標系上における座標位置を計測し、該計測された複数の座標位置を統計演算することによって、前記複数の特定マークの各々の前記静止座標系上における座標位置を求めるために用いられる複数の第2パラメータを算出する第3工程とを含み、前記複数の第1パラメータのうちの配列オフセットを表すパラメータと前記複数の第2パラメータのうちの配列オフセットを表すパラメータとの偏差に応じて、前記複数の露光領域の各々を前記露光位置に対して順次位置合わせすることを特徴とする位置合わせ方法。
IPC (2)：
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