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J-GLOBAL ID：200903052253832202

熱フィラメントCVD装置

Inventor： 須田 吉久 ,  清水 修 ,  志村 史夫 ,  伊藤 辰巳
Applicant, Patent owner： 三菱鉛筆株式会社
Agent (1)： 石田 敬 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002002393
Publication number (International publication number)：2003206196
Application date： Jan. 09, 2002
Publication date： Jul. 22, 2003
Summary：

【要約】【課題】 ダイヤモンド膜等を高純度かつ効率良く形成する熱フィラメントCVD装置を提供する。【解決手段】 基板ホルダー32と、反応ガスを分解してラジカルを発生させる熱フィラメント36とを有する熱フィラメントCVD装置において、熱フィラメント36に炭素系フィラメントを使用する。炭素系フィラメント36は、塩素化塩化ビニル樹脂などの焼成後にアモルファス炭素となる高分子樹脂に黒鉛および窒化硼素を混合し所望の形状に成型後、不活性雰囲気中で焼成したものである。

Claim (excerpt)：

基板ホルダーと、反応ガスを分解してラジカルを発生させる熱フィラメントとを有する熱フィラメントCVD装置において、熱フィラメントに炭素系フィラメントを使用する熱フィラメントCVD装置。

IPC (2)：

C30B 29/04 ,  C23C 16/27

FI (2)：

C30B 29/04 G ,  C23C 16/27

F-Term (18)：

4G077AA03 ,  4G077BA03 ,  4G077DB07 ,  4G077DB21 ,  4G077EA01 ,  4G077EA02 ,  4G077EG15 ,  4G077TA04 ,  4G077TA11 ,  4G077TB02 ,  4G077TB13 ,  4G077TE05 ,  4K030AA09 ,  4K030BA28 ,  4K030CA04 ,  4K030FA17 ,  4K030KA45 ,  4K030KA46