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J-GLOBAL ID:200903052262739746
発光素子及びその製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
木村 満 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001003514
Publication number (International publication number):2002208729
Application date: Jan. 11, 2001
Publication date: Jul. 26, 2002
Summary:
【要約】【課題】 シリコン基板上に結晶性の良好な発光機能層を形成でき、駆動電圧を低減することができる発光素子及びその製造方法を提供する。【解決手段】 発光素子1は、シリコン基板5と、シリコン基板5の表面を含む領域に形成された金属化合物領域6と、金属化合物領域6上に形成された窒化アルミニウム層7と、窒化アルミニウム層7上に形成され、ガリウムとインジウムとを含む反応源供給層8と、反応源供給層8上に形成された発光機能層9とを備えている。そして、窒化アルミニウム層7は、反応源供給層8からシリコン基板5に拡散されるガリウム及びインジウムの拡散開始時期を遅延可能な厚さに形成されている。
Claim (excerpt):
シリコン基板と、前記シリコン基板の表面を含む領域に形成され、ガリウムとインジウムとシリコンとを主成分とする金属化合物領域と、前記金属化合物領域上に形成された窒化アルミニウム層と、前記窒化アルミニウム層上に形成され、ガリウムとインジウムとを含む第1窒化物系化合物半導体層と、前記第1窒化物系化合物半導体層上に形成され、発光機能を有する第2窒化物系化合物半導体層と、を備える、ことを特徴とする発光素子。
IPC (2):
FI (2):
H01L 33/00 C
, H01L 21/205
F-Term (14):
5F041AA31
, 5F041CA46
, 5F041CA65
, 5F045AA04
, 5F045AB09
, 5F045AB14
, 5F045AB40
, 5F045AC08
, 5F045AD11
, 5F045AD14
, 5F045BB08
, 5F045BB16
, 5F045CA09
, 5F045DA53
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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3族窒化物半導体素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-214003
Applicant:豊田合成株式会社
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窒化ガリウム系半導体素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-335255
Applicant:天野浩, 赤崎勇, パイオニア株式会社, 豊田合成株式会社
-
発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-285109
Applicant:住友化学工業株式会社
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