Pat
J-GLOBAL ID：200903052276004153

レーザ加工装置

Inventor：
齋藤 茂樹

About 齋藤 茂樹


Applicant, Patent owner：
スズキ株式会社

About スズキ株式会社


Agent (1)： 高橋 勇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998222387
Publication number (International publication number)：2000042779
Application date： Jul. 22, 1998
Publication date： Feb. 15, 2000
Summary：
【要約】【課題】 次の?@〜?Bのいずれかを達成する。?@.レーザビームの移動速度が速くても、十分な溶融深さが得られる。?A.被加工物の位置がレーザビームの光軸方向に変動しても、複数のレーザビームが分かれない。?B.レーザビームの移動方向によって、溶融深さが変化しない。【解決手段】 本発明のレーザ加工装置10は、レーザビームA,Bを発生させるレーザ共振器12A,12Bと、レーザ共振器12A,12Bから発生したレーザビームA,Bに対して光軸Aa,Baを一致させて混合するビーム混合手段14と、ビーム混合手段14で混合されたレーザビームA,Bを被加工物94へ照射するビーム照射手段16と、レーザビームA,Bの焦点Af,Bfを自在に移動することができる焦点位置可変手段18,20とを備えている。
Claim (excerpt)：
レーザビームを発生させる複数のレーザ共振器と、これらのレーザ共振器から発生した複数のレーザビームに対して光軸を一致させて混合するビーム混合手段と、このビーム混合手段で混合されたレーザビームを被加工物へ照射するビーム照射手段と、を備えたレーザ加工装置。
IPC (2)：
B23K 26/06 ,  B23K 26/04
FI (3)：
B23K 26/06 E ,  B23K 26/06 Z ,  B23K 26/04 C
F-Term (3)：
4E068CA11 ,  4E068CD02 ,  4E068CK01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • 特開平3-185403
  • 特開昭49-022096
  • レーザ発振器
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-188586   Applicant：ファナック株式会社
Show all
Cited by examiner (3)
  • 特開平3-185403
  • 特開昭49-022096
  • レーザ発振器
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-188586   Applicant：ファナック株式会社

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM