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J-GLOBAL ID：200903052285049011

セルフクリーニング式プラズマ処理リアクタ

Inventor： アヴィ テップマン ,  ヤン イー
Applicant, Patent owner： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996306657
Publication number (International publication number)：1997237778
Application date： Nov. 18, 1996
Publication date： Sep. 09, 1997
Summary：

【要約】【課題】 プラズマ処理を中断させず、又は、損傷を与える可能性のある機械的又は化学的なプロセスを有しない、リアクタクリーニングの方法。【解決手段】クリーニングとプラズマ処理の両方に同じガスを用い、且つ、これらの2つの工程を同時に行うことにより、従来技術のクリーニング方法の欠点を克服するものである。プラズマエッチングリアクタを、1種類のガス又は混合ガスで満たし、プラズマを点火する。RF電力によりリアクタ内にプラズマを維持してワークピースをエッチングする。ワークピースの処理と同時に、充分な量のRF電力をクリーニング電極に供給し、リアクタベッセルの内壁の一部へのイオンの衝突を向上させる。このクリーニング電極により、プラズマのうちリアクタベッセルの内壁へ向けられる部分が、ワークピースの処理に実質的に影響を与えることなくリアクタベッセルの内側面をクリーニングすることができるようになる。

Claim (excerpt)：

プラズマを用いてワークピースを処理するための装置であって、内側面を有するリアクタベッセルと、前記リアクタベッセル内でプラズマを発生し維持するための手段と、プラズマの一部を前記リアクタベッセルの前記内側面に向けるための手段とを備え、プラズマの一部が前記リアクタベッセルの前記内側面をクリーニングすることが可能であり、クリーニングがワークピースの処理と同時に実施され、且つ、ワークピースの処理を実質的に低下させない、装置。

IPC (4)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/304 341 ,  H05H 1/46

FI (5)：

H01L 21/302 N ,  C23F 4/00 A ,  C23F 4/00 E ,  H01L 21/304 341 D ,  H05H 1/46 A