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J-GLOBAL ID：200903052310858949

分光分析装置

Inventor： 石橋 仁志 ,  上中 進 ,  鈴木 良治 ,  森本 進
Applicant, Patent owner： 株式会社クボタ
Agent (1)： 北村 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994018089
Publication number (International publication number)：1994300699
Application date： Feb. 15, 1994
Publication date： Oct. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】 分光分析をおこなうに際して、分光が可能な光量が確保できるとともに、正常に試料を透過してきた検出光のみを用いて分析をおこなうことができる分光分析装置を得る。【構成】 測定用光線束を受光部に向けて照射する測定用光線束照射手段と、測定用光線束照射手段と受光部との間に備えられる試料測定部3に粒状試料Sを供給する試料供給手段と、受光部により受光される検出光を分光分析して、粒状試料Sの特性を分析する分光分析手段とを備えた分光分析装置を、検出光より得られるスペクトルから、検出光が粒状試料を透過した適正測定光であるかどうかを判別する照射状態判別手段10を備えて構成する。

Claim (excerpt)：

測定用光線束を受光部に向けて照射する測定用光線束照射手段と、前記測定用光線束照射手段と前記受光部との間に備えられる試料測定部(3)に粒状試料(S)を供給する試料供給手段と、前記受光部により受光される検出光を分光分析して、前記粒状試料(S)の特性を分析する分光分析手段とを備えた分光分析装置であって、前記検出光より得られるスペクトルから、前記検出光が前記粒状試料を透過した適正測定光であるかどうかを判別する照射状態判別手段(10)を備えた分光分析装置。

IPC (5)：

G01N 21/85 ,  G01J 3/42 ,  G01N 1/00 101 ,  G01N 21/27 ,  G01N 21/59

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-132939
  
• 特開平1-245886
  
• 特開平4-105043