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J-GLOBAL ID：200903052321125471

基板の洗浄方法

Inventor： 畑田 伸二
Applicant, Patent owner： 住友金属工業株式会社
Agent (1)： 森 道雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995165353
Publication number (International publication number)：1997017766
Application date： Jun. 30, 1995
Publication date： Jan. 17, 1997
Summary：

【要約】【構成】フッ化水素水溶液の薬液槽で発生させたフッ化水素水溶液の蒸気と、希釈用溶媒槽で発生させた希釈用溶媒蒸気とを混合させて、真空排気した反応室内に導入して、基板上の自然酸化膜を除去する方法であって、フッ化水素水溶液の温度を0〜30°Cに反応室圧力を80〜250Torrに保持する、または、フッ化水素水溶液の温度を30〜40°Cに前記反応室圧力を150〜250Torrに保持する基板の洗浄方法。【効果】基板表面の自然酸化膜のみを完全に除去することができ、しかも共存する他の酸化膜を冒さない選択的除去が可能になる。

Claim (excerpt)：

フッ化水素水溶液の薬液槽で発生させたフッ化水素水溶液の蒸気と、希釈用溶媒槽で発生させた希釈用溶媒蒸気とを混合させて、真空排気した反応室内に導入して、基板上の自然酸化膜を除去する方法であって、前記フッ化水素水溶液の温度を0〜30°Cに前記反応室圧力を80〜250Torrに保持する、または、前記フッ化水素水溶液の温度を30〜40°Cに前記反応室圧力を150〜250Torrに保持することを特徴とする基板の洗浄方法。

IPC (4)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/308

FI (4)：

H01L 21/304 341 V ,  H01L 21/304 341 D ,  H01L 21/308 G ,  H01L 21/306 D