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J-GLOBAL ID:200903052323970195
非線形光学材料、非線形光導波路素子及び非線形光導波路素子の形成法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993051426
Publication number (International publication number):1995181530
Application date: Feb. 16, 1993
Publication date: Jul. 21, 1995
Summary:
【要約】【目的】 最適設計の導波路形状が、容易かつ設計通り精確に形成され、光を効率的に閉じ込めることができ、したがって効率的に二次及び三次の非線形光学効果を発現し得る非線形光導波路素子を提供する。【構成】 フォトクロミック性を示し、かつ、その光異性化状態において非線形光学特性を有する化合物を薄膜3中に含有する非線形光学材料、それを用いて形成された薄膜のフォトクロミック化合物光異性化状態分布パターンを非線形光導波路5とする非線形光導波路素子及び上記非線形光学材料にフォトクロミック化合物を光異性化する光を照射して薄膜の被照射部を非線形光導波路化する非線形光導波路素子の形成法。
Claim (excerpt):
フォトクロミック性を示し、かつ、その光異性化状態において非線形光学特性を有する化合物を含有することを特徴とする非線形光学材料。
IPC (4):
G02F 1/35 504
, C09K 9/02
, G02F 1/17
, G03C 1/685
Patent cited by the Patent:
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