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J-GLOBAL ID:200903052376790857
多孔質酸化チタン薄膜とその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
社本 一夫 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002132502
Publication number (International publication number):2003321222
Application date: May. 08, 2002
Publication date: Nov. 11, 2003
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、従来のゾル-ゲル法によるものとは異なり、空隙率が高く大きな比表面積を有しており、また、非球形の微結晶集合体から構成される多孔質TiO2薄膜と、その膜厚をナノメートルレベルで制御する多孔質TiO2薄膜の製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】 本発明は、空隙率が50%以上であり、大きな比表面積を有する多孔質酸化チタン薄膜であって、アスペクト比の高い薄片状の形態を有する酸化チタン微結晶集合体から構成されることを特徴とする薄膜、および組成式Ti2-x/4O4x-(x=0.60〜0.75)で示されるチタニアナノシートと有機アンモニウム分子とを水面上で錯形成させてチタニア-有機層状ハイブリッド薄膜を製造し、ラングミュア-ブロジェット法を利用することによってそのまま固体基板上に単層あるいは多層で累積させ、高温で焼成することを特徴とする多孔質TiO2薄膜の製造方法を課題解決手段とする。
Claim (excerpt):
空隙率が50%以上であり、大きな比表面積を有する多孔質酸化チタン薄膜。
F-Term (6):
4G047CA02
, 4G047CB04
, 4G047CB05
, 4G047CC03
, 4G047CD02
, 4G047CD04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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結晶性酸化チタン単分子膜の作製法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-295963
Applicant:日本原子力研究所
Article cited by the Patent:
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