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J-GLOBAL ID:200903052390771822

窒化タングステンの化学蒸着

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000598344
Publication number (International publication number):2002536549
Application date: Feb. 11, 2000
Publication date: Oct. 29, 2002
Summary:
【要約】タングステンカルボニル化合物と窒素含有気体を約600°Cより低い温度で反応せしめる窒化タングステン及び窒化タングステン皮膜を製造するための方法。約600°Cより低い温度で窒素含有気体の存在下で窒化タングステン皮膜を形成することのできるタングステンカルボニル化合物を含む窒化タングステン先駆物質もまた含められる。原子層付着により窒化タングステン皮膜を形成するための方法もまた提供される。
Claim (excerpt):
タングステンカルボニル化合物と窒素含有気体とを約600°Cより低い温度で反応せしめることを包含する窒化タングステンの製造方法。
IPC (2):
C23C 16/34 ,  B32B 9/00
FI (2):
C23C 16/34 ,  B32B 9/00 A
F-Term (18):
4F100AA12B ,  4F100AD04B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100EH66B ,  4F100EJ42 ,  4F100GB41 ,  4F100JD01 ,  4F100JG04B ,  4F100JK12 ,  4F100YY00B ,  4K030AA12 ,  4K030AA13 ,  4K030AA17 ,  4K030BA20 ,  4K030BA38 ,  4K030JA10 ,  4K030LA15

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