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J-GLOBAL ID：200903052414007347
X線マスクおよびその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
深見 久郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998080906
Publication number (International publication number)：1999283897
Application date： Mar. 27, 1998
Publication date： Oct. 15, 1999
Summary：
【要約】【課題】 X線マスクウエハとサポートリング7とを接着することに基づく転写の際のパターンの寸法精度の劣化を防止できるX線マスクおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 シリコン基板1と、メンブレン2と、反射防止膜3と、X線吸収体4と、エッチマスク5と、レジスト6とを有するX線マスクウエハが、接着剤8を介在してサポートリング7に万力11によって押し付けられた状態でレジスト6がベークされる。
Claim (excerpt)：
X線を透過する材質よりなるマスク基板と、前記マスク基板上に形成されかつX線を吸収する材質よりなるX線吸収体パターンと、前記マスク基板を支持する支持体とを有するX線マスクウエハと、前記X線マスクウエハの前記支持体に2箇所または3箇所で接着された補強枠とを備えた、X線マスク。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 531 M
, G03F 1/16 A
