検出装置及びそれを用いた露光装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高梨幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998131132
Publication number (International publication number)：1999023225
Application date： Apr. 25, 1998
Publication date： Jan. 29, 1999
Summary：

【要約】【課題】ウエハ表面の光軸方向の面位置情報を高精度に検出し、ウエハ表面を投影光学系の結像位置に位置させ、高集積度のデバイスを容易に製造することができる検出装置及びそれを用いた露光装置を得ること。【解決手段】第1のパターンジェネレータと該第1のパターンジェネレータの形成したパターンを物体面上に斜め方向より投影して前記物体面上にパターン像を形成する投光光学系と、前記パターン像からの光を導く受光光学系と、前記受光光学系に導かれた光を検出する受光素子とを有し、該受光素子の検出により前記物体面の面位置情報を検出すること。

Claim (excerpt)：

第1のパターンジェネレータと該第1のパターンジェネレータの形成したパターンを物体面上に斜め方向より投影して前記物体面上にパターン像を形成する投光光学系と、前記パターン像からの光を導く受光光学系と、前記受光光学系に導かれた光を検出する受光素子とを有し、該受光素子の検出により前記物体面の面位置情報を検出することを特徴とする検出装置。

IPC (4)：

G01B 11/00 , G01B 11/26 , G03F 9/00 , H01L 21/027

FI (4)：

G01B 11/00 H , G01B 11/26 H , G03F 9/00 H , H01L 21/30 526 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

面位置検出装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-247748 Applicant：株式会社ニコン
面位置検出方法及びそれを用いた投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-212199 Applicant：キヤノン株式会社
空間光変調器のためのイルミネーション光学
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-108005 Applicant：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド

Show all

Return to Previous Page