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J-GLOBAL ID：200903052431090789

放射線感応性組成物及びそれを用いたパタン形成法

Inventor： 上野 巧 ,  内野 正市 ,  林 伸明 ,  服部 孝司 ,  橋本 通晰 ,  佐々木 守
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立化成工業株式会社
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993249071
Publication number (International publication number)：1995104473
Application date： Oct. 05, 1993
Publication date： Apr. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】紫外線,短波長紫外線,電子線,X線その他の活性放射線に対して、高感度でアルカリ水溶液による現像可能な高解像性を有する組成物およびそれを用いたパタン形成法を提供すること。【構成】酸を触媒とする反応によりアルカリ水溶液に対する溶解抑制効果を示す物質となりうる化合物が芳香環を複数個含む二級または三級アルコールとアルカリ可溶性高分子、及び放射線の照射により酸を発生する酸前駆体からなる組成物およびそれを用いたパタン形成法。【効果】高効率でパタン形成が実現でき、高集積半導体を歩留まりよく、かつ容易に得ることができる。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性高分子,芳香環に直接結合した炭素上に水酸基を有する二級または三級アルコール及び放射線の照射により酸を発生する酸前駆体を含むパタン形成材料であって、酸を触媒とする反応によりアルカリ水溶液に対する溶解抑制効果を示す物質となりうる化合物が芳香環を複数個含む二級または三級アルコールであることを特徴とする放射線感応性組成物。

IPC (6)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 569 F