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J-GLOBAL ID:200903052434790609

欠陥検査装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 則近 憲佑
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991238876
Publication number (International publication number):1993045303
Application date: Nov. 06, 1979
Publication date: Feb. 23, 1993
Summary:
【要約】 (修正有)【構成】 ほぼ平坦な面よりなる被検体1に光ビームを照射する複数の光源51〜53と、前記被検体1の面に対して、ほぼ垂直な方向に設けられ、前記光源からの光ビームのうち前記被検体表面の欠陥により散乱された光を受光する受光手段と、この受光手段により前記欠陥の検出を行う欠陥検査装置において、前記複数の光源からの光ビームを一方方向から照射すると共に、複数の光源からのビームの照射角度と変えるようにし、前記光源及び受光手段とを固定したまま前記欠陥の検査を行なうことを特徴とする欠陥検査装置。【効果】 本願発明によれば、被検体の欠陥を正確測定可能となる。例えば、一方方向から光ビームを照射すると、その反対側が影となるため、受光される波長ピーク特性が左右で異なり、波長を誇張され、欠陥をより正確に測定可能となる。
Claim (excerpt):
ほぼ平坦な面よりなる被検体に光ビームを照射する複数の光源と、前記被検体の面に対して、ほぼ垂直な方向に設けられ、前記光源からの光ビームのうち前記被検体表面の欠陥により散乱された光を受光する受光手段と、この受光手段により前記欠陥の検出を行う欠陥検査装置において、前記複数の光源からの光ビームを一方方向から照射すると共に、複数の光源からのビームの照射角度を互い変える様にして、前記光源及び受光手段とを固定したまま前記欠陥の検査を行うことを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (3):
G01N 21/88 ,  G01B 11/30 ,  H01L 21/66
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開昭56-067739
  • 特開昭49-075392
  • 特開昭49-008292
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