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J-GLOBAL ID：200903052459346177

基板の回路パターンの欠陥検査装置

Inventor： 鴫原 和仁
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997105701
Publication number (International publication number)：1998300825
Application date： Apr. 23, 1997
Publication date： Nov. 13, 1998
Summary：

【要約】【課題】真空中で安定した速度で連続移動可能であり、かつ姿勢精度・傾き・高さ(フォーカス)等の経時変化の少ない試料ステージにより、高精度,高スループットである基板の回路パターンの欠陥検査装置を提供する。【解決手段】電子線を基板に照射するための照射手段と、前記基板から前記電子線照射により励起された二次電子を検出する検出手段と、前記基板を大気から真空内に自動的に搬送させる搬送手段と、真空内で前記基板を保持移動させるとともに重量低減機構が付加された移動手段と、前記移動手段の座標を検出する座標検出手段と、前記二次電子により像を形成、比較する像形成手段と、前記像形成手段における比較から前記基板上に形成されている回路パターンの欠陥を自動的に検出する欠陥検出手段からなることを特徴とする基板の回路パターンの欠陥検査装置。

Claim (excerpt)：

電子線を基板に照射するための照射手段と、前記基板から前記電子線照射により励起された二次電子を検出する検出手段と、前記基板を大気から真空内に自動的に搬送させる搬送手段と、真空内で前記基板を保持移動させるとともに重量低減機構が付加された移動手段と、前記移動手段の座標を検出する座標検出手段と、前記二次電子により像を形成、比較する像形成手段と、前記像形成手段における比較から前記基板上に形成されている回路パターンの欠陥を自動的に検出する欠陥検出手段からなることを特徴とする基板の回路パターンの欠陥検査装置。

IPC (3)：

G01R 31/302 ,  G01R 31/02 ,  H01J 37/28

FI (3)：

G01R 31/28 L ,  G01R 31/02 ,  H01J 37/28 A