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J-GLOBAL ID:200903052475811300
低圧縮永久歪の自己接着性シリコーンゴム
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
宇井 正一 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993188349
Publication number (International publication number):1994172652
Application date: Jul. 29, 1993
Publication date: Jun. 21, 1994
Summary:
【要約】【目的】 本発明は硬化してゴムになる組成物であって、このゴムは種々の基板に対して下塗りを行わなくても接着しそして低圧縮永久歪等の性質を有する。【構成】 この組成物は、ヒドロシリル化反応によって硬化するシリコーン重合体及び接着促進剤の組合せたものを含む。金属基板に接着する場合、アルミニウムケレート及びエポキシトリアルコキシシランを含む組成物は特に有用であることが見い出された。この組成物をプラスチック材料に接着させる場合、アルミニウムケレート、エポキシトリアルコキシシランの他に、テトラアルキルチタネート、アルキルポリシリケート及びアクリレート又はメタクリレート化合物を含むと有利である。
Claim (excerpt):
ゴムに硬化できる液体シリコーン組成物であって、珪素原子に対して有機基の平均割合が2.0から2.3の範囲内であるアルケニル含有ポリジオルガノシロキサンであって、ポリジオルガノシロキサンのいづれの有機基はいづれの基において7個より少ない炭素原子を有する炭化水素基及び弗素化アルキル基から成る群から選ばれた1価の基であり、オルガノ水素シロキサン1分子について少なくとも平均3個の珪素に結合した水素原子を有するオルガノ水素シロキサンであって、水素原子によって満たされていないオルガノ水素シロキサンのいづれの珪素原子価は2価の酸素原子又は有機基によって満たされ、ここでの有機基はいづれの1個の基について7個よりは少ない炭素原子を有する炭化水素基及び弗素化アルキル基から選ばれた1価の基であり、オルガノ水素シロキサンはいづれの1個の珪素原子について珪素に結合した水素原子を1個よりは多く有せず、オルガノ水素シロキサンの量はポリジオルガノシロキサンのアルケニル基に対して珪素に結合した水素原子の割合は1.2から1.9を提供できるものであり、白金族の金属を含むヒドロシリル化触媒(hydrosilation catalyst)、ポリジオルガノシロキサンをべースにして0.05から20ppm のアルミニウムを提供する量のアルミニウムキレート、及び100部のポリジオルガノシロキサンについて0.05から0.40部のエポキシトリアルコキシシランであって、エポキシトリアルコキシシランのアルコキシ基は1から4個の炭素原子を有する、これらを包含する前記組成物。
IPC (4):
C08L 83/07 LRN
, C08K 5/54
, C08L 83/05 LRP
, C09K 3/10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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特開昭60-101146
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特開昭62-240361
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特開平4-246466
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シリコーンゴム組成物およびシリコーンゴム加工布
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-307603
Applicant:東芝シリコーン株式会社
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特開昭62-158746
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特開平2-028280
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Cited by examiner (1)
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