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J-GLOBAL ID：200903052493915849

薄膜磁気ヘッド用基板材料とその製造方法

Inventor： 岡本 賢一 ,  朴 在九 ,  井村 浩一
Applicant, Patent owner： 東芝セラミックス株式会社
Agent (1)： 田辺 徹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991341684
Publication number (International publication number)：1993159235
Application date： Dec. 02, 1991
Publication date： Jun. 25, 1993
Summary：

【要約】【目的】 品質が優れ、耐用寿命が長い薄膜磁気ヘッド用基板材料とその製造方法を提供すること。【構成】 薄膜磁気ヘッド用の非磁性基板材料において、MgO-NiO-La2 O3 系材料を用いて構成され、平均結晶粒径が15μm以下であって、0.1μm以上の大きさの残留気孔がない薄膜磁気ヘッド用基板材料。MgO-NiO-La2 O3 系材料を用いて焼成体を形成し、そのまわりにNiOやCoO等の酸化物を含む粉体を配置し、不活性ガス雰囲気中で熱間静水圧プレス処理を行うことを特徴とする薄膜磁気ヘッド用基板材料の製造方法。

Claim (excerpt)：

薄膜磁気ヘッド用の非磁性基板材料において、MgO-NiO-La2 O3 系材料を用いて構成され、平均結晶粒径が15μm以下であって、0.1μm以上の大きさの残留気孔がない薄膜磁気ヘッド用基板材料。

IPC (2)：

G11B 5/31 ,  G11B 5/187