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J-GLOBAL ID：200903052511192574
イオン注入装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
原 謙三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991248806
Publication number (International publication number)：1993089819
Application date： Sep. 27, 1991
Publication date： Apr. 09, 1993
Summary：
【要約】【構成】 ターゲット13とドーズモニタ10とを空間的に異なる配置で有したイオン注入装置は、イオンビーム1の軸線上における前後2個所に配置された第1および第2多点モニタ8・15と、ターゲット13上の走査速度および走査方向におけるビームスポットの電流分布から走査方向での注入量分布を予測し、この注入量分布を積分して得られたターゲット13上およびドーズモニタ10上の予測注入量の比率と、ドーズモニタ10で測定したビーム電流量とを基にしてターゲット13への注入量を制御するCPU部2とを有しているもの。【効果】 ターゲット13上およびドーズモニタ10上の予測注入量の比率を基に、ドーズモニタ10での注入量をターゲット13への注入量に換算して注入量制御を行うため、高精度な注入量制御を行うことができる。
Claim (excerpt)：
走査されたイオンビームが入射されるターゲットとドーズモニタとを空間的に異なる配置で有したイオン注入装置において、上記イオンビームの軸線上における前後2個所に配置された多点モニタと、上記多点モニタから求められたイオンビームの走査速度と、走査方向におけるビームスポットの電流分布とで、ターゲット上およびドーズモニタ上の走査方向での注入量分布を予測し、この注入量分布を積分して求めたターゲット上の予測注入量とドーズモニタ上の予測注入量との比率と、ドーズモニタで測定したビーム電流量とを基にしてターゲットへの注入量を制御する制御手段とを有していることを特徴とするイオン注入装置。
IPC (4)：
H01J 37/317
, H01J 37/04
, H01L 21/265
, G01T 1/29
