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J-GLOBAL ID：200903052555657787
投影露光装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993199398
Publication number (International publication number)：1995057989
Application date： Aug. 11, 1993
Publication date： Mar. 03, 1995
Summary：
【要約】【目的】 ArFエキシマレーザを光源とする半導体マスクパターンの投影露光装置において、温度コントロールされた窒素で光学系を充填し所定の温度に保つと共に、窒素ガスの流入に伴う気体の揺らぎを防止し結像性能の低下を防ぐ。【構成】 露光装置を覆う筐体を有し筐体の中に温度コントロールされた窒素を供給するための装置と注入される窒素の揺らぎを緩和するための部材と、露光装置を覆う筐体と温度コントロールするための装置の間に窒素を一時溜めておくバッファ漕を有し、前記結像レンズおよび前記照明レンズの鏡筒には窒素の流通が可能な流通口が設けられいる投影露光装置。さらに投影レンズおよび照明レンズの鏡筒の気体流通口は該流通口の遮蔽ができるようになっている投影露光装置。また投影レンズを含むレチクルからウエハまでの結像光学系が気体流通口のある遮蔽部材で覆われている投影露光装置。
Claim (excerpt)：
レチクルのパタ-ンをウエハ上に投影するための結像レンズとレチクルを照明する照明レンズを含む照明光学系を有する投影露光装置において、照明系を含む光学系を覆う筐体を有し筐体の中に温度コントロールされた窒素を供給するための装置と注入される窒素の揺らぎを緩和するための揺らぎ緩和部材と、光学系を覆う筐体と温度コントロールするための装置の間に窒素を一時溜めておくバッファ漕を有し、前記投影レンズおよび前記照明レンズの鏡筒には窒素の流通が可能な流通口が設けられている投影露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
