Pat
J-GLOBAL ID：200903052568027650
パターン欠陥検出方法およびパターン欠陥検出装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998197375
Publication number (International publication number)：2000028333
Application date： Jul. 13, 1998
Publication date： Jan. 28, 2000
Summary：
【要約】【課題】 量子化誤差を欠陥として検出することなく、かつ高精度の欠陥検出を行うことができるパターン欠陥検出方法およびパターン欠陥検出装置を提供する。【解決手段】 階調を備えた多値画像であるマスターパターンMとオブジェクトパターンPに対して「揺すらせ法」によるパターンマッチングを行う。その際、マスターパターンMを1画素未満の幅を単位としてオブジェクトパターンPに対して「揺すらせ」る。(a)ではマスターパターンMとオブジェクトパターンPがあまりよい一致を示しておらず、両パターンには(b)に示すような大きな階調差が生じている。これに対してマスターパターンMをオブジェクトパターンPに対して0.4画素分、図中右側へ揺すらせると(c)に示すように両パターンがよりよい一致を示し、(d)に示すように両パターンには階調差が少なくなっている。
Claim (excerpt)：
2次元オブジェクトパターンを2次元マスターパターンと所定の大きさの区域ごとに比較して欠陥検出を行なうパターン欠陥検出方法であって、前記オブジェクトパターンの検査区域と当該検査区域に対し位置的に対応すべきマスターパターンの区域を中心として所要画素数周辺を拡げた拡張区域にわたって2次元的に単位量ずつ所定量だけ位置ずれした複数のマスター区域とを設定し、前記複数のマスター区域の多値画像信号と、前記検査区域の多値画像信号とを、前記マスター区域毎にそれぞれ比較して欠陥検出を行なうもので、(a)前記複数のマスター区域のそれぞれに対して、当該マスター区域と前記検査区域との相対応する画素毎に多値画像信号の階調差の絶対値である階調差絶対値を求める工程と、(b)前記複数のマスター区域のそれぞれに対する前記階調差絶対値を所定のしきい値と比較し、全ての前記マスター区域において前記しきい値以上である前期階調差絶対値を含む場合には前記検査区域には欠陥有りと判定し、1以上の前記マスター区域において全ての前記階調差絶対値が前記しきい値未満である場合には前記検査区域には欠陥無しと判定する工程と、を備えることを特徴とするパターン欠陥検出方法。
IPC (2)：
FI (3)：
G01B 11/24 F
, G01B 11/24 K
, G01B 11/30 G
2F065AA49
, 2F065AA56
, 2F065BB02
, 2F065CC01
, 2F065CC17
, 2F065CC25
, 2F065FF01
, 2F065FF04
, 2F065FF61
, 2F065JJ02
, 2F065JJ05
, 2F065JJ25
, 2F065MM03
, 2F065MM22
, 2F065PP12
, 2F065QQ00
, 2F065QQ03
, 2F065QQ11
, 2F065QQ12
, 2F065QQ23
, 2F065QQ24
, 2F065QQ25
, 2F065QQ27
, 2F065QQ36
, 2F065QQ39
, 2F065QQ47
, 2F065RR09
, 2F065SS11
