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J-GLOBAL ID：200903052579065503

高周波加熱装置

Inventor：
神崎 浩二

About 神崎 浩二

, 
早川 雄二

About 早川 雄二


Applicant, Patent owner：
松下電器産業株式会社

About 松下電器産業株式会社


Agent (3)： 岩橋 文雄 ,  坂口 智康 ,  内藤 浩樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002173752
Publication number (International publication number)：2004020005
Application date： Jun. 14, 2002
Publication date： Jan. 22, 2004
Summary：
【課題】蒸気発生部が清掃容易で常に衛生的に保つことができ、蒸発皿の温度情報をもとに加熱制御と給水制御をおこなうことで適正な蒸気加熱処理を行うことができるようにし、しかも、加熱効率を高めた蒸気発生機能付き高周波加熱装置を提供する。【解決手段】被加熱物を収容する加熱室11に、高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置であって、高周波発生部13と、加熱室11内で蒸気を発生する蒸気発生部15と、蒸気発生部の温度を検出する温度検出部20と、ヒータを制御する制御部501とを備え、温度検出部の温度情報をもとに蒸気発生部の加熱制御をおこなう。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
被加熱物を収容する加熱室に高周波を供給する高周波発生部と、前記加熱室内で蒸気を発生する蒸気発生部と、前記蒸気発生部の温度を検出する温度検出部と、前記蒸気発生部の蒸発皿加熱ヒータの加熱を制御するヒータ制御手段を備え、前記加熱室に高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して前記被加熱物を加熱処理する高周波加熱装置であって、前記蒸気発生部の温度を検出する温度検出部の温度情報をもとに前記蒸発皿加熱ヒータの加熱制御を行うことを特徴とする高周波加熱装置。
IPC (3)：
F24C1/00 ,  F24C7/02 ,  H05B11/00
FI (8)：
F24C1/00 320B ,  F24C1/00 340B ,  F24C1/00 350B ,  F24C7/02 H ,  F24C7/02 320F ,  F24C7/02 345J ,  F24C7/02 350J ,  H05B11/00 D
F-Term (18)：
3K086AA01 ,  3K086AA08 ,  3K086BA02 ,  3K086BA08 ,  3K086BB02 ,  3K086CA02 ,  3K086CB04 ,  3K086CC03 ,  3K086CC11 ,  3K086CD11 ,  3K086DA02 ,  3L086AA07 ,  3L086BD10 ,  3L086CB08 ,  3L086CC08 ,  3L086CC16 ,  3L086DA06 ,  3L086DA29
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
  • 高周波加熱装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-327664   Applicant：松下電器産業株式会社
  • 蒸し器
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-082740   Applicant：東芝ホームテクノ株式会社
  • 特開昭55-049631
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