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J-GLOBAL ID：200903052583785499

ペロブスカイト型酸化物薄膜及びペロブスカイト類似型酸化物薄膜並びにそれらの製造方法

Inventor： 松井 邦人 ,  柴田 雅敏
Applicant, Patent owner： 出光興産株式会社
Agent (1)： 穂高 哲夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993020775
Publication number (International publication number)：1993286702
Application date： Jan. 14, 1993
Publication date： Nov. 02, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 膜組織の均質性、基板(基材)と接触信頼性等にも優れ、膜の緻密性や細孔径、気孔率、膜厚等を制御・選定でき、気相及び/又は液相との接触効率を改善できる高性能のペロブスカイト型酸化物薄膜又はペロブスカイト類似型酸化物薄膜を提供する。【構成】 ペロブスカイト型酸化物又はペロブスカイト類似型酸化物からなる平均粒子径1.0nm以上1μm以下の酸化物粒子が連続的に結合して構成され、かつ、その膜厚が5nm以上10μm以下であるペロブスカイト型酸化物薄膜又はペロブスカイト類似型酸化物薄膜の製造方法であって、エーテル結合を持つアルコール及び/又は窒素含有アルコールからなる溶媒に少なくともペロブスカイト型酸化物又はペロブスカイト類似型酸化物の形成原料である金属塩及び/又は金属錯体を溶解してなる溶液を基板上に塗布し、熱分解するペロブスカイト型酸化物薄膜又はペロブスカイト類似型酸化物薄膜の製造方法より成る。

Claim (excerpt)：

ペロブスカイト型酸化物からなる平均粒子径1.0nm以上1μm以下の酸化物粒子が連続的に結合して構成され、かつ、その膜厚が5nm以上10μm以下であることを特徴とするペロブスカイト型酸化物薄膜。

IPC (4)：

C01B 13/18 ,  C01G 3/00 ,  C01G 45/00 ,  C01G 51/00