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J-GLOBAL ID：200903052585776985

物質の製造装置および製造方法

Inventor： 浅野 由花子 ,  富樫 盛典 ,  小田 将史 ,  白石 朋史 ,  河村 勉
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 平木 祐輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005073422
Publication number (International publication number)：2006255522
Application date： Mar. 15, 2005
Publication date： Sep. 28, 2006
Summary：

【課題】 逐次反応において、一段目の反応で得られる目的生成物の収率および選択率を向上させる手段を提供する。【解決手段】 逐次反応をしうる物質Aと物質Bとを反応させて一段目の反応の生成物を目的生成物として製造するための物質製造装置であって、微細流路、物質Aを含む溶液を微細流路に導入するための流路および物質Bを含む溶液を微細流路に導入するための流路を含む混合部、ならびに微細流路内の反応系の温度を制御するための温度制御装置を備え、温度制御装置が微細流路内の反応系の温度を、バッチ法による反応温度より高温かつ反応系の沸点未満の温度領域になるように制御するものである、前記製造装置。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

逐次反応をしうる物質Aと物質Bとを反応させて一段目の反応の生成物を目的生成物として製造するための物質製造装置であって、 微細流路、物質Aを含む溶液を微細流路に導入するための流路および物質Bを含む溶液を微細流路に導入するための流路を含む混合部、ならびに微細流路内の反応系の温度を制御するための温度制御装置を備え、 温度制御装置が微細流路内の反応系の温度を、物質Aと物質Bの一段目の反応の見かけの反応速度定数k1と二段目の反応の見かけの反応速度定数k2との比k1/k2が0°Cのときの3倍となる温度以上かつ反応系の沸点未満の温度領域になるように制御するものである、前記製造装置。

IPC (1)：

B01J 19/00

FI (1)：

B01J19/00 321

F-Term (20)：

4G075AA13 ,  4G075AA39 ,  4G075BA10 ,  4G075BD15 ,  4G075BD22 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075EE12 ,  4G075FA01 ,  4G075FA12 ,  4G075FB02 ,  4G075FB06 ,  4G075FB12 ,  4G075FB13 ,  4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AC30 ,  4H006BE53

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 物質の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-259085   Applicant：関西ティー・エル・オー株式会社
• 化学反応実施方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-518778   Applicant：ブリティッシュ・ニュークリア・フューエルズ・パブリック・リミテッド・カンパニー

Cited by examiner (2)

• 物質の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-259085   Applicant：関西ティー・エル・オー株式会社
• スタティックマイクロミキサーにおけるフリーデル-クラフツアシル化方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2001-514269   Applicant：メルクパテントゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフトング