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J-GLOBAL ID:200903052596018322
イオンガイドおよびこれを用いた質量分析装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
西岡 義明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000193974
Publication number (International publication number):2002015699
Application date: Jun. 28, 2000
Publication date: Jan. 18, 2002
Summary:
【要約】【課題】組立・調整が容易にでき、しかも小径であるイオンガイドおよびそのようなイオンガイドを用いた質量分析装置を提供する。【解決手段】フレキシブル基板30上に電極部11、12をパターン形成し、これを丸めて円筒形状の保持部材10により固定することによりイオンガイドを形成する。
Claim (excerpt):
フレキシブルな基板上に電極部をパターン形成し、このフレキシブル基板を円筒形状のベース部材を用いて支持することにより形成したことを特徴とするイオンガイド。
IPC (2):
FI (3):
H01J 49/06
, G01N 27/62 E
, G01N 27/62 X
F-Term (1):
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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特開平3-165444
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質量分析計および静電レンズ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-232833
Applicant:株式会社日立製作所
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飛行時間型質量分光計のためのグリッドレス、焦点調節イオン抽出装置
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2001-584455
Applicant:ザジョンズホプキンズユニバーシティ
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撓みプリント回路ボードを備えるイオンリフレクトロン
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2001-517408
Applicant:ザジョンズホプキンズユニバーシティ
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特開昭64-002189
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MS/MS型質量分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-351143
Applicant:株式会社島津製作所
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イオン移動度スペクトロメータ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-008280
Applicant:国防科学研究所
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プラズマ質量スペクトロメータ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-159226
Applicant:マイクロマス・リミテッド
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大気圧イオン化質量分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-285124
Applicant:日本電子株式会社
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