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J-GLOBAL ID：200903052611955346

CVD装置

Inventor： 内田 寛人 ,  高山 孝一 ,  佐藤 正光 ,  伊藤 厚生 ,  片桐 学
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアル株式会社
Agent (1)： 志賀 正武 (外9名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998288535
Publication number (International publication number)：2000119857
Application date： Oct. 09, 1998
Publication date： Apr. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】 気化器上流の管路内の原料の析出や、気化器内部の原料ガスの固化による目詰まりを低減させることができるCVD装置を提供することを目的としている。【解決手段】 ポンプ5によって主管路9側に吐出され、圧力上昇手段1によって加圧されている液体原料3は、ダンパ10によって脈動が抑えられて気化器2に供給される。また、キャリアガス供給部7のキャリアガスは、キャリアガス加熱手段8によって加熱されて気化器2内に供給される。液体原料3は加圧されることによって主管路9内での揮発が抑えられ、気化器2内部では、供給されるキャリアガスが加熱されているため、気化された原料ガスが固化されず、主管路9内や気化器2内部は原料の固化による目詰まりが低減される。

Claim (excerpt)：

ポンプによって気化器に供給される液体原料を気化器内部で加熱気化させて原料ガスにし、該原料ガスをキャリアガスとともに反応チャンバ内に供給し、該チャンバ内に配置された基板上に化学気相蒸着により反応生成物を成膜するCVD装置において、前記液体原料が通過する気化器上流側の管路内の圧力を上昇させる圧力上昇手段と、気化器に供給されるキャリアガスを気化器内部の原料ガス加熱温度とほぼ同じ温度に加熱させるキャリアガス加熱手段とを備えたことを特徴とするCVD装置。

IPC (5)：

C23C 16/448 ,  C23C 16/455 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31

FI (5)：

C23C 16/44 C ,  C23C 16/44 D ,  C23C 16/44 J ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 B

F-Term (14)：

4K030AA11 ,  4K030BA01 ,  4K030BA03 ,  4K030BA18 ,  4K030BA42 ,  4K030EA01 ,  4K030JA09 ,  4K030KA25 ,  5F045BB10 ,  5F045EC07 ,  5F045EE02 ,  5F045EE05 ,  5F045EE14 ,  5F045EK25