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J-GLOBAL ID：200903052631271028

ドライ現像用ポジ型レジスト組成物

Inventor： 高橋 純一 ,  日馬 征智 ,  中村 俊夫 ,  勇元 喜次
Applicant, Patent owner： 日本合成ゴム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993348478
Publication number (International publication number)：1995191465
Application date： Dec. 27, 1993
Publication date： Jul. 28, 1995
Summary：

【要約】【構成】 アジド化合物(イ)と水酸基含有樹脂(ロ)とを、および/またはアジド基と水酸基を含有する樹脂(ハ)を含有することを特徴とするドライ現像用ポジ型レジスト組成物。【効果】 ドライ現像時にレジストパターンの未露光部の膜減りがなく、現像性、パターン形状、解像度等に優れる。

Claim (excerpt)：

アジド化合物(イ)と水酸基含有樹脂(ロ)とを、および/またはアジド基と水酸基を含有する樹脂(ハ)を含有することを特徴とするドライ現像用ポジ型レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/012 501 ,  G03F 7/36 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 569 H