欠陥検査装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：林敬之助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992344244
Publication number (International publication number)：1994194135
Application date： Dec. 24, 1992
Publication date： Jul. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】基板上に形成されている被検査パターンと基板周辺部に形成されている被検査パターンの両者同時に欠陥検査を行うことができる欠陥検査装置を提供する。【構成】検査対象である被検査パターンが形成されている基板を照射する光源として、基板に対する分光透過率の高い波長で且つ被検査パターンに対する分光透過率の低い波長成分を含む光源を用い、光源からの光を検査対象に照射するための照射光学系と、基板を固定する基板固定手段と、検査対象を透過した光を受光するための受光手段と、受光された光を処理し、欠陥のない基板と比較し結果を表示する画像処理手段とからなる構成とした。【効果】本発明により、両被検査パターンを同時に検査することができるようになり、検査に必要なコストの低減と時間の短縮が期待される。

Claim (excerpt)：

検査対象である基板上及び基板周辺部に形成された被検査パターンの形状を検査する装置において、前記基板に対する分光透過率の高い波長で且つ前記被検査パターンに対する分光透過率の低い波長成分を含む光源と、前記光源からの光を前記検査対象に照射するための照射光学系と、検査対象である前記基板を固定する基板固定手段と、前記検査対象を透過した光を受光するための受光手段と、受光された光強度分布を処理し、欠陥のない基板と比較し結果を表示する画像処理手段とからなることを特徴とする欠陥検査装置。

IPC (4)：

G01B 11/24 , G01N 21/88 , G06F 15/62 405 , G06F 15/64

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (18)

特開昭54-143290
特開平3-093244
特開平4-323846

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