Pat

J-GLOBAL ID：200903052664370226

灰処理装置および方法

Inventor： 下平 和佳子 ,  山本 学 ,  藤原 直機 ,  藤原 弘道
Applicant, Patent owner： バブコック日立株式会社
Agent (1)： 鵜沼 辰之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999016425
Publication number (International publication number)：2000210637
Application date： Jan. 26, 1999
Publication date： Aug. 02, 2000
Summary：

【要約】【課題】 灰に付着したダイオキシン類を灰のまま直接に分解し、かつ再合成を抑制する。【解決手段】 灰aを撹拌するロータリーキルン10と、このロータリーキルン10で撹拌する灰aに、紫外線を照射するUV光源32と、オゾンを供給するオゾン供給手段35と、ロータリーキルン10の内部にTiO2系光触媒をコーティングした触媒コーティング撹拌板44とを備える。さらに、灰aの雰囲気温度を250°C未満に保持するヒータ48を備える。

Claim (excerpt)：

灰を撹拌する撹拌手段と、該撹拌手段により攪拌される灰に次の手段を少なくとも一つ備えてなる灰処理装置。?@ 紫外線を照射する手段?A オゾンを供給する手段?B 触媒を作用させる手段

IPC (5)：

B09B 3/00 ,  A62D 3/00 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01J 35/02 ,  B09B 5/00 ZAB

FI (5)：

B09B 3/00 304 G ,  A62D 3/00 ,  B01J 35/02 J ,  B01D 53/36 ZAB G ,  B09B 5/00 ZAB N

F-Term (37)：

2E191BA12 ,  2E191BB00 ,  2E191BD11 ,  2E191BD13 ,  2E191BD17 ,  4D004AA36 ,  4D004AA37 ,  4D004AB05 ,  4D004AB06 ,  4D004AB07 ,  4D004CA36 ,  4D004CA43 ,  4D004CB09 ,  4D004CB21 ,  4D004CB28 ,  4D004CB32 ,  4D004CB44 ,  4D004CC01 ,  4D004CC09 ,  4D004DA03 ,  4D004DA06 ,  4D048AA11 ,  4D048AB03 ,  4D048AC07 ,  4D048BA07X ,  4D048BB01 ,  4D048CB03 ,  4G069AA02 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069CA02 ,  4G069CA04 ,  4G069CA10 ,  4G069CA19 ,  4G069DA08 ,  4G069EA01X