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J-GLOBAL ID：200903052666085219

製造計画立案方法および製造計画立案装置

Inventor： 石塚 裕晶
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 前田 弘 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997022252
Publication number (International publication number)：1997311704
Application date： Feb. 05, 1997
Publication date： Dec. 02, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 製品の歩留まりが向上すると共に、製品の製造コストや製品の納期遅れ等を向上させることが可能な製造計画を立案できるようにする。【解決手段】 処理待ち製品検索工程101において、製造ラインに投入されている製品iの第jn (i)番目の工程P(i,jn(i))が未処理で、かつ当工程の前工程P(i,jn (i)-1)が処理済みである製品を検索する。次工程選択工程102では、上記検索製品に対して工程P(i,jn (i)-1)の次に処理が可能である少なくとも一つの処理可能工程を検索し、これらの工程を工程P(i,jn (i)-1)の次に処理した場合の製品iの製造コスト総和及び納期遅れ期間の総和を計算し、最も優れた処理可能工程を次工程として選択し、製造計画作成工程103は、そのような処理を行なう製造計画を作製する。

Claim (excerpt)：

製造ラインに投入されている製品のうちから、製品iの第jn(i)工程である工程P(i,jn (i))が未処理であり且つ工程P(i,jn (i))の前工程である工程P(i,jn (i)-1)が処理済みである製品を検索する処理待ち製品検索工程と、前記処理待ち製品検索工程において検索された製品に対して工程P(i,jn(i)-1)の次に処理が可能である少なくとも1つの処理可能工程を検索し、検索された処理可能工程について、各処理可能工程を工程P(i,jn (i)-1)の次に処理した場合における、製品iの製造コストの総和及び製品iの納期遅れ期間の総和のうちの少なくとも1つの総和よりなるパラメーターを計算し、計算されたパラメーターのうち最適なパラメーターに対応する処理可能工程を次工程として選択する次工程選択工程と、工程P(i,jn (i)-1)の次に前記次工程選択工程において選択された処理可能工程を処理する製造計画を作製する製造計画作製工程とを備えていることを特徴とする製造計画立案方法。

IPC (3)：

G05B 15/02 ,  B23Q 41/08 ,  G06F 17/60

FI (3)：

G05B 15/02 Z ,  B23Q 41/08 A ,  G06F 15/21 R