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J-GLOBAL ID：200903052695946622

パターン欠陥検出方法とその装置

Inventor： 遠藤 文昭 ,  前田 俊二 ,  窪田 仁志
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 秋本 正実
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997012827
Publication number (International publication number)：1997189528
Application date： Jun. 30, 1989
Publication date： Jul. 22, 1997
Summary：

【要約】【課題】 検査対象の多品種に対応したパターン欠陥検査を行うこと。【解決手段】 撮像手段4により検出された、基板上に形成された第1のパターンは画像信号として画像記憶手段6に記憶されているが、そのパターンと本来同一形状であるべき前記基板上に形成された第2のパターンが手段4により画像信号として検出されるに際しては、差画像検出手段7では、それら画像信号の差画像が算出された上、前記基板上に形成されたパターンの画像信号に基づき予め設定された閾値に基づいてその差画像は2値化画像として得られているものである。この2値化画像に基づいてパターン欠陥検出が行われているものである。

Claim (excerpt)：

基板上に形成された第1のパターンを検出して前記第1のパターンの画像信号を得るステップと、該第1のパターンの画像信号を記憶するステップと、前記第1のパターンと本来同一形状であるべき前記基板上に形成された第2のパターンを検出して該第2のパターンの画像信号を得るステップと、前記記憶した第1のパターンの画像信号と前記第2のパターンの画像信号との差画像を算出するステップと、前記基板上に形成されたパターンの画像信号に基づいて予め設定された閾値に基づいて前記差画像を2値化して2値化画像を得るステップと、該2値化画像に基づいて前記基板上に形成されたパターンの欠陥を検出するステップと、を有することを特徴とするパターン欠陥検出方法。

IPC (4)：

G01B 11/24 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/66

FI (5)：

G01B 11/24 F ,  G01B 11/30 C ,  G01N 21/88 E ,  G01N 21/88 J ,  H01L 21/66 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭62-130343
  
• 特開昭62-113436
  
• 特開昭63-126242
  
• 特開昭62-282387