Pat

J-GLOBAL ID：200903052744020803

液晶表示装置の製造方法およびプラズマ処理装置

Inventor： 高木 茂行
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 大胡 典夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000186562
Publication number (International publication number)：2002006338
Application date： Jun. 21, 2000
Publication date： Jan. 09, 2002
Summary：

【要約】【課題】 poly-Si膜の表面に発生した微小な突起を平坦化して形成する液晶表示装置の製造方法とプラズマ処理装置を提供すること。【解決手段】 レジスト3の表面からドライエッチングをおこなうことによりpoly-Si2の表面を平坦化する。また、プラズマ処理装置は、マイクロ波導波管17、17a、17bの下面とマイクロ波導入窓14の上面との隙間は、隙間調整手段16、16a、16b、16cによって一定に保つ。

Claim (excerpt)：

ガラス基板上に成膜されたアモルファスシリコン薄膜にエネルギービームを照射してポリシリコン薄膜を形成する工程と、前記ポリシリコン薄膜の表面にレジストを塗布する工程と、前記レジストの表面からドライエッチングをおこなうことにより前記ポリシリコンの表面を平坦化する工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。

IPC (2)：

G02F 1/1368 ,  H05H 1/46

FI (2)：

H05H 1/46 B ,  G02F 1/136 500

F-Term (8)：

2H092JA24 ,  2H092JB58 ,  2H092KA04 ,  2H092KA05 ,  2H092MA08 ,  2H092MA19 ,  2H092MA30 ,  2H092NA19