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J-GLOBAL ID：200903052745669668

化学増幅型レジスト組成物

Inventor： 藤原 匡之 ,  脇阪 幸也 ,  遠山 昌之
Applicant, Patent owner： 三菱レイヨン株式会社
Agent (1)： 金田 暢之 (外2名)
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2000004623
Publication number (International publication number)：WO2001004706
Application date： Jul. 11, 2000
Publication date： Jan. 18, 2001
Summary：

【要約】酸によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂と、光酸発生剤と、25°Cの水中において共役酸を形成し得る程度の塩基性を示し、中程度の極性を有するアミン誘導体とを含む化学増幅型レジスト組成物を開示する。このアミン誘導体はクエンチャーとして機能する。このため、本発明の化学増幅型レジスト組成物は、高精度で微細なレジストパターンの形成を可能とし、特に、ArFエキシマレーザーを使用するリソグラフィーにおいて、好適に使用することができる。

Claim (excerpt)：

酸によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂と、光酸発生剤と、25°Cの水中において共役酸を形成し得る程度の塩基性を示し、中程度の極性を有するアミン誘導体とを含むことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/30 502 R