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J-GLOBAL ID：200903052765506641

電子部品用洗浄剤組成物

Inventor： 牛山 広俊 ,  横井 健二 ,  木村 明 ,  増田 直子
Applicant, Patent owner： ライオン株式会社
Agent (1)： 臼村 文男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991360186
Publication number (International publication number)：1993179289
Application date： Dec. 30, 1991
Publication date： Jul. 20, 1993
Summary：

【要約】【構成】 (a) 化1のフェノールまたはC1〜C5アルキルフェノールのアルキレンオキシド付加物、(b) 界面活性剤、(c) C6〜C18 のパラフィン系炭化水素、(d) C1〜C8アルコールのアルキレンオキシド付加物を含有する電子部品用洗浄剤。【効果】 液晶セル、ロジン系半田フラックス等の電子部品関連の洗浄効果に優れ、環境および作業上安全な水系洗浄剤。【化1】(R1:水素あるいは炭素数1〜5のアルキル基またはアルケニル基p:2〜4の数q:アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、1〜20の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で付加していてもよく、2種類以上のアルキレンオキシドが混合して付加していてもよいr:1〜3の数)

Claim (excerpt)：

(a) 化1で示される化合物【化1】(R1:水素あるいは炭素数1〜5のアルキル基またはアルケニル基p:2〜4の数q:アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、1〜20の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で付加していてもよく、2種類以上のアルキレンオキシドが混合して付加していてもよいr:1〜3の数)を含有することを特徴とする電子部品用洗浄剤組成物。

IPC (9)：

C11D 3/20 ,  C11D 10/02 ,  C23G 5/032 ,  H01L 21/304 341 ,  C11D 1:22 ,  C11D 1:72 ,  C11D 1:28 ,  C11D 7:24 ,  C11D 3:20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-111496
  
• 特開平1-263200
  
• 特開昭59-176398
  
• 洗浄剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-238954   Applicant：東邦化学工業株式会社, 旭化成工業株式会社