エキシマレーザー用石英ガラス部材の製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：武田正彦 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991182857
Publication number (International publication number)：1994199532
Application date： Jun. 29, 1991
Publication date： Jul. 19, 1994
Summary：

【要約】[目的] エキシマレーザー照射時に生成する常磁性欠陥の量を減少させることができる。[構成] 直接火炎加水分解法において、原料として、化学式R1nSi(OR2)4-n(式中、R1,R2は、同一又は異種の脂肪族一価炭化水素基、nは0乃至3の整数を示す)を有するアルコキシシラン化合物を用いて石英ガラスを製造する方法。

Claim (excerpt)：

化学式R1nSi(OR2)4-n(式中、R1,R2は、同一又は異種の脂肪族一価炭化水素基、nは0乃至3の整数を示す)を有するアルコキシシラン化合物を、酸水素炎により火炎加水分解し、生成する微粒子シリカを回転している耐熱性基体上に堆積・溶融ガラス化させて石英ガラスを製造し、該石英ガラスを均質化処理することにより、少なくとも一方向に脈理を有しない高均質石英ガラスを形成し、該高均質石英ガラスをアニール処理することを特徴とするエキシマレーザー用石英ガラス部材の製造方法。

IPC (3)：

C03B 20/00 , C03B 8/04 , G02B 1/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平2-080343
特開平2-064645
特開平1-138145

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